fbpx Fluorine barrier properties of bias sputtered tungston films |الجامعة العربية الأمريكية
معلومات التواصل للدعم الفني ومساعدة الطلبة ... إضغط هنا

Fluorine barrier properties of bias sputtered tungston films

Authors: 
S.B. Herner
H.-M. Zhang
Y. Tanaka,
W. Shi
S.X. Yang
R. Lum
K. A. Littau
A. Saleh
Journal Name: 
Electrochem
Volume: 
147
Issue: 
5
Pages From: 
1936
To: 
1939
Date: 
السبت, يناير 1, 2000